【年度總結】2022年中國光刻膠行業市場回顧及2023年發展前景預測分析
來源:中商產業研究院 發布日期:2023-04-03 17:41
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中商情報網訊:光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄材料,是半導體制造中使用的核心電子材料之一。光刻膠可以分為面板光刻膠(LCD光刻膠)、PCB光刻膠和半導體光刻膠(芯片光刻膠)。在半導體、面板顯示以及PCB下游市場需求的帶動下,光刻膠擁有良好的市場前景和廣闊的發展空間,我國光刻膠等半導體材料國產化進程有望加快。

一、2022年光刻膠行業發展現狀回顧

1.光刻膠市場規模

目前,我國光刻膠產業鏈雛形初現,從上游原材料、中游成品制造到下游應用均在逐步完善,且隨著下游需求的逐漸擴大,光刻膠市場規模顯著增長。數據顯示,我國光刻膠市場規模由2017年58.7億元增至2020年84億元,年均復合增長率為12.7%,預計2023年我國光刻膠市場規模可達109.2億元。

數據來源:中商產業研究院整理

2.光刻膠產品占比情況

光刻膠可以分為面板光刻膠(LCD光刻膠)、PCB光刻膠和半導體光刻膠(芯片光刻膠),其中半導體光刻膠生產難度較高。

全球光刻膠產品占比中,三種光刻膠生產結構較為均衡,相比之下,我國光刻膠行業發展起步較晚,生產能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品,其中PCB光刻膠占比達94%,而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口,自給率較低。未來隨著光刻膠企業生產能力的提高,我國光刻膠生產結構將會進一步優化。

數據來源:中商產業研究院整理

3.光刻膠國產化情況

從光刻膠國產化程度來看,生產技術難度較低的PCB光刻膠國產化程度較高,面板光刻膠和半導體光刻膠國產化程度很低,半導體光刻膠是技術難度最高但成長性最好的細分市場,其中G/I線光刻膠國產替代率相對較高,而EUV光刻膠國產替代化程度最低,目前還處于研發階段。

資料來源:中商產業研究院整理

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