中商情報網訊：靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝，是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。
高性能濺射靶材市場規模增長穩定
我國高性能濺射靶材行業在國家戰略政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下，行業技術不斷突破，產品性能不斷提升，帶動高性能濺射靶材市場規模不斷擴大。數據顯示，中國高性能濺射靶材市場規模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元，年均復合增長率為19.47%。中商產業研究院預測，2022年中國高性能濺射靶材市場規模將達288.1億元。
數據來源：中商產業研究院整理
應用市場分析
濺射靶材是平面顯示、太陽能電池、半導體等領域生產所需的關鍵材料，具有較高附加值和良好的市場發展前景。在下游主要應用市場中，平面顯示領域占比最高，達到30%。其次是半導體集成電路，占比達20%；太陽能電池領域占比達18%。
數據來源：中商產業研究院整理
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國高性能濺射靶材行業市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、產業研究報告、產業規劃、園區規劃、十四五規劃、產業招商引資等服務。
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