中商情報網訊：涂膠顯影設備是光刻工序中與光刻機配套使用的涂膠、烘烤及顯影設備，包括涂膠機、噴膠機和顯影機。根據使用方式不同可分為單獨使用（Off Line）和聯機作業（In Line）。
市場規模
涂膠/顯影機作為光刻機的輸入（曝光前光刻膠涂覆）和輸出（曝光后圖形的顯影）設備，主要通過機械手使晶圓在各系統之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程，是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。中國大區（含中國臺灣地區）前道涂膠顯影設備市場規模預計由 2016 年的 8.57 億美元增長至2023 年的10.26 億美元，年均復合增長率有望達 7.78%。
數據來源：中商產業研究院整理
競爭格局
TEL 在中國大陸的市占率高達91%，其次為 Screen（迪恩士），占比接近 5%，中國芯源微涂膠顯影設備國產化率僅為4%。
數據來源：中商產業研究院整理
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國半導體設備行業市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、產業研究報告、產業規劃、園區規劃、十四五規劃、產業招商引資等服務。
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