2021年中國光刻膠市場前景及投資研究報告(簡版)
來源:中商產業研究院 發布日期:2021-10-19 14:10
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中商情報網訊:近年來,隨著大規模和超大規模集成電路的快速發展,光刻膠作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,也迎來了高速發展。隨著中國企業在半導體光刻膠關鍵技術領域取得突破,以及中國半導體產能快速擴展和供應鏈自主可控需求帶來的發展機遇,國內半導體光刻膠發展。

一、光刻膠定義

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。經過幾十年不斷的發展和進步,光刻膠的應用領域不斷擴大,衍生出非常多的種類,根據應用領域,光刻膠可分為半導體光刻膠、平板顯示光刻膠和PCB光刻膠,其技術壁壘依次降低,具體如下圖所示:

資料來源:中商產業研究院整理

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