2023年全球濺射靶材市場規模預測及市場競爭格局分析(圖)
來源:中商產業研究院 發布日期:2023-01-24 14:14
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中商情報網訊:高性能濺射靶材伴隨著半導體、平面顯示、信息存儲、微電子等產業的發展而興起,涉及到電性、磁性、熱性、反射率及顏色外觀等多個技術特性,屬于典型的技術密集型產業,生產技術、機器設備、工藝流程和工作環境要求非常嚴格,長期以來一直為國外壟斷。

隨著各類濺射薄膜材料在半導體集成電路、平面顯示、信息存儲等領域的廣泛應用,下游領域對濺射靶材這一高附加值功能材料的需求不斷增加,高性能濺射靶材市場規模日益擴大,呈快速增長態勢。數據顯示,2021年,全球濺射靶材市場規模上升至213億美元。未來,隨著物聯網、大數據、新型顯示、太陽能電池、節能玻璃等新型基礎設施和新型應用領域的發展,濺射靶材的終端應用領域將進一步擴大,全球濺射靶材市場規模仍將持續穩定增長,預計2023年其市場規模將達258億美元。

數據來源:中商產業研究院整理

憑借專利技術上的先發優勢,以及雄厚的技術力量、精細的生產控制和過硬的產品質量,美國、日本、歐洲等發達國家或地區的大型濺射靶材廠商占據了全球濺射靶材市場較高的市場份額。以JX金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯等為代表的大型跨國企業成立較早,歷史悠久,發展成熟,囊括了金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等全產業鏈環節。另外,三井金屬、住友化學、愛發科、世泰科、攀時等資金實力雄厚、技術水平領先、產業經驗豐富的跨國公司在各自的優勢靶材領域處于市場領先地位。

數據來源:中商產業研究院整理

更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國半導體材料市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、行業研究報告、行業白皮書、商業計劃書、可行性研究報告、園區產業規劃、產業鏈招商圖譜、產業招商指引、產業鏈招商考察&推介會等服務。

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