中商情報網訊：光刻機是芯片制造中光刻環節的核心設備， 技術含量、價值含量極高。它采用類似照片沖印的技術，把掩模版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
雖然這些年我國在關于光刻機的很多領域取得進展，但是總體來說國內的光刻機技術與國外技術差距依舊有15到20年。光刻機設備是所有半導體設備中復雜度最高、精度最高、單臺價格最高的設備，現代工業的集大成者。光刻機主要分為EUV光刻機、DUV光刻機。EUV是最高端的光刻機，其研發周期長達十余年，是光刻機皇冠上的明珠。從產業鏈來看，光刻機產業鏈主要包括上游設備及材料、中游光刻機生產及下游光刻機應用三大環節。光刻工藝一般包括氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、對準和曝光、曝光后烘焙、顯影、堅膜烘焙、顯影檢查等8個步驟。
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一、光刻機產業鏈上游市場分析
光刻機涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術，是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備。一臺光刻機省生產涉及到上游上千家供應商，比如德國的光學設備與超精密儀器，美國的計量設備與光源等。光刻機的主要部件包含測量臺與曝光臺、激光器、光束矯正器、能量控制器等。
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光刻機產業鏈上游是光刻機配套設備以及核心組件的供應商。其中涉及的代表企業主要如下：
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