中商情報網訊：光刻機作為芯片產業的核心裝備，是芯片制造中最復雜、最昂貴的設備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷蘭政府發布光刻機新出口管制，ASML需要申請出口許可，才能裝運最先進的浸沒式DUV系統。為了避免在芯片產能爬坡時被外界的設備供應給“卡脖子”，國產光刻機正在加快突破。
一、光刻機行業發展現狀
1.光刻機銷量
全球半導體設備行業復蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發展,相關芯片的需求增加。2021年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約650臺，較2020年增加70臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約500臺；面板、LED用光刻機出貨約150臺。2021年全球光刻機銷量為450臺，隨著下游市場需求持續升高，預計2023全球市場仍將持續增長，銷量將超550臺。
數據來源：中商產業研究院整理
2.光刻機成本占比
光刻機可用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。2021年全球前道光刻設備市場規模為172億美元，其市場份額在晶圓生產設備中占比為20%，僅次于蝕刻設備。光刻機價格昂貴，ASML當前EUV光刻機單價為1.5億-2億美元。
數據來源：SEMI、中商產業研究院整理
3.光刻機行業競爭格局
全球光刻機市場的主要競爭者為ASML、Nikon和Canon。2022年三大企業光刻機營收合計接近200億美元，合計市場份額超過90%。其中，ASML光刻機營收約161億美元，較2021年增長了23%，Canon光刻機營收約為20億美元，Nikon光刻機業務營收約15億美元。ASML在全球光刻機TOP3市場份額占比82.1%，占絕對龍頭地位。
從產品出貨類型來看，ASML在超高端光刻機領域一家獨大，如EUV、ArFi等類型光刻機，產品眾多；Canon與Nikon產品部分光刻機用于面板業，部分用于半導體，Canon目前產品集中于特定工藝領域的i-Line和KrF設備，Nikon擁有除了EUV以外的所有類型光刻機產品，出貨量少于前兩家。
數據來源：中商產業研究院整理
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