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2022-2027年中國光刻機產業發展趨勢分析及投資風險預測報告
2022-2027年中國光刻機產業發展趨勢分析及投資風險預測報告
報告編碼:HB 911175 了解中商產業研究院實力
出版日期:動態更新
報告頁碼:150 圖表:50
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內容概括

2022-2027年中國光刻機產業發展趨勢分析及投資風險預測報告

報告目錄

第一章 光刻機行業相關概述

第二章 2019-2021年國際光刻機行業發展分析

2.1 光刻機行業產業鏈分析
2.1.1 光刻機產業鏈基本構成
2.1.2 光刻機產業鏈上游分析
2.1.3 光刻機產業鏈中游分析
2.1.4 光刻機產業鏈下游分析
2.2 全球光刻機行業發展綜述
2.2.1 發展環境分析
2.2.2 產業發展歷程
2.2.3 市場發展規模
2.2.4 市場競爭格局
2.2.5 供需關系分析
2.2.6 價格變化態勢
2.3 全球光刻機細分市場分析
2.3.1 細分產品結構
2.3.2 i-line光刻機
2.3.3 KrF光刻機
2.3.4 ArF光刻機
2.3.5 ArFi光刻機
2.3.6 EUV光刻機
2.4 全球光刻機重點企業運營情況:ASML
2.4.1 企業發展概況
2.4.2 企業發展歷程
2.4.3 產業的生態鏈
2.4.4 創新股權結構
2.4.5 經營狀況分析
2.4.6 產品結構分析
2.4.7 光刻產品布局
2.4.8 技術研發現狀
2.4.9 企業戰略分析
2.5 全球光刻機重點企業運營情況:Canon
2.5.1 企業發展概況
2.5.2 經營狀況分析
2.5.3 企業業務分析
2.5.4 現有光刻產品
2.5.5 技術研發現狀
2.6 全球光刻機重點企業運營情況:Nikon
2.6.1 企業發展概況
2.6.2 經營狀況分析
2.6.3 企業業務結構
2.6.4 企業光刻產品
2.6.5 光刻技術研發
2.6.6 光刻業務面臨挑戰

第三章 2019-2021年中國光刻機行業政策環境分析

3.1 中國半導體產業政策分析
3.1.1 歷史政策梳理
3.1.2 重點政策分析
3.1.3 中外政策對比
3.2 中國半導體行業政策主要變化
3.2.1 規劃目標的變化
3.2.2 發展側重點變化
3.2.3 財稅政策的變化
3.2.4 扶持主體標準變化
3.3 中國光刻機行業相關支持政策
3.3.1 產業重要政策
3.3.2 補貼基礎設施
3.3.3 扶持配套材料
3.3.4 完善產業環境

第四章 2019-2021年中國光刻機行業發展環境分析

4.1 中美科技戰影響分析
4.1.1 《瓦森納協定》解讀
4.1.2 美方對華發動科技戰原因
4.1.3 美對中科技主要制裁措施
4.1.4 中美科技領域摩擦的影響
4.2 經濟環境分析
4.2.1 宏觀經濟概況
4.2.2 對外經濟分析
4.2.3 工業經濟運行
4.2.4 宏觀經濟展望
4.3 投融資環境分析
4.3.1 半導體行業資金來源
4.3.2 大基金一期完成情況
4.3.3 大基金一期投向企業
4.3.4 大基金二期實行現狀
4.3.5 各省市資金扶持情況
4.4 人才需求環境分析
4.4.1 中國人才需求現狀概況
4.4.2 人才與薪酬呈現雙增長
4.4.3 制造行業人才供需失衡
4.4.4 高端創新領域人才緊缺
4.4.5 人才培養機制暫不健全

第五章 2019-2021年中國光刻機行業發展綜況

5.1 中國光刻機行業發展綜述
5.1.1 行業發展背景
5.1.2 行業發展歷程
5.1.3 行業發展現狀
5.1.4 產業上游分析
5.1.5 產業下游分析
5.2 中國光刻機行業運行狀況
5.2.1 行業驅動因素
5.2.2 企業區域分布
5.2.3 國內采購需求
5.2.4 國產供給業態
5.2.5 行業投融資情況
5.3 2019-2021年中國光刻機進出口數據分析
5.3.1 進出口總量數據分析
5.3.2 主要貿易國進出口情況分析
5.3.3 主要省市進出口情況分析
5.4 中國光刻機行業發展問題
5.4.1 主要問題分析
5.4.2 產業發展挑戰
5.4.3 行業發展痛點
5.4.4 行業發展風險
5.5 中國光刻機行業發展對策
5.5.1 增加科研投入
5.5.2 加快技術突破
5.5.3 加強人才積累

第六章 2018-2021年光刻機產業鏈上游分析

6.1 光刻核心組件重點行業發展分析
6.1.1 雙工作臺
6.1.2 光源系統
6.1.3 物鏡系統
6.2 光刻配套設施重要行業發展分析
6.2.1 光刻氣體
6.2.2 光掩膜版
6.2.3 缺陷檢測
6.2.4 涂膠顯影
6.3 光刻核心組件重點企業解析
6.3.1 雙工作臺:華卓精科
6.3.2 浸沒系統:啟爾機電
6.3.3 曝光系統:國科精密
6.3.4 光源系統:科益虹源
6.3.5 物鏡系統:國望光學
6.4 光刻配套設施重點企業解析
6.4.1 配套光刻氣:華特氣體、凱美特氣
6.4.2 光掩膜版:清溢光電、菲利華
6.4.3 缺陷檢測:東方晶源
6.4.4 涂膠顯影:芯源微

第七章 2019-2021年光刻機上游——光刻膠行業分析

7.1 光刻膠行業發展綜述
7.1.1 光刻膠的定義
7.1.2 光刻膠的分類
7.1.3 光刻膠重要性
7.1.4 技術發展趨勢
7.2 全球光刻膠行業發展
7.2.1 光刻膠產業鏈
7.2.2 行業發展歷程
7.2.3 市場發展現狀
7.2.4 細分市場分析
7.3 中國光刻膠企業發展
7.3.1 國產市場現狀
7.3.2 行業發展規模
7.3.3 企業布局分析
7.4 國產光刻膠重點企業運營情況
7.4.1 江蘇南大光電材料股份有限公司
7.4.2 蘇州晶瑞化學股份有限公司
7.4.3 江蘇雅克科技股份有限公司
7.4.4 深圳市容大感光科技股份有限公司
7.4.5 上海新陽半導體材料股份有限公司
7.4.6 北京科華微電子材料有限公司

第八章 2018-2021年光刻機產業鏈下游應用分析

8.1 芯片領域
8.1.1 芯片相關概念
8.1.2 芯片制程工藝
8.1.3 行業運營模式
8.1.4 芯片產品分類
8.1.5 行業發展現狀
8.1.6 行業產量規模
8.1.7 產業結構分布
8.2 芯片封裝測試領域
8.2.1 封裝測試概念
8.2.2 市場規模分析
8.2.3 市場競爭格局
8.2.4 國內重點企業
8.2.5 封測技術發展
8.2.6 行業發展趨勢
8.3 LED領域
8.3.1 LED行業概念
8.3.2 行業產業鏈條
8.3.3 產業市場規模
8.3.4 全球競爭格局
8.3.5 應用領域分析
8.3.6 行業發展趨勢

第九章 2019-2021年光刻機行業技術發展分析

9.1 全球光刻技術發展綜述
9.1.1 全球技術演進階段
9.1.2 全球技術發展瓶頸
9.1.3 全球技術發展方向
9.2 中國光刻技術發展態勢
9.2.1 中國研發進展分析
9.2.2 國內技術研發狀況
9.2.3 中國發展技術問題
9.2.4 國內技術研究方向
9.3 光刻機行業專利技術狀況
9.3.1 數據來源分析及介紹
9.3.2 專利申請趨勢分析
9.3.3 技術產出區域分析
9.4 光刻機重點技術分析
9.4.1 接觸接近式光刻技術
9.4.2 投影式光刻技術
9.4.3 步進式光刻技術
9.4.4 雙工作臺技術
9.4.5 雙重圖案技術
9.4.6 多重圖案技術
9.4.7 浸沒式光刻機技術
9.4.8 極紫外光刻技術
9.5 “02專項”項目分析
9.5.1 “02專項”項目概述
9.5.2 “光刻機雙工件臺系統樣機研發”項目
9.5.3 “極紫外光刻關鍵技術研究”項目
9.5.4 “超分辨光刻裝備研制”項目

第十章 2019-2021年中國光刻機標桿企業運營分析

10.1 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
10.1.1 企業發展概況
10.1.2 產品業務分析
10.1.3 經營情況分析
10.1.4 企業競爭劣勢
10.1.5 企業股權結構
10.1.6 技術研究分析
10.2 合肥芯碩半導體有限公司
10.2.1 企業發展概況
10.2.2 企業發展歷程
10.2.3 產品結構分析
10.2.4 技術研發分析
10.2.5 核心競爭力
10.3 無錫影速半導體科技有限公司
10.3.1 企業發展概況
10.3.2 企業股權結構
10.3.3 產品結構分析
10.3.4 技術研發分析
10.4 北京半導體專用設備研究所
10.4.1 企業發展概況
10.4.2 企業客戶構成
10.4.3 產品結構分析
10.4.4 技術研發分析
10.4.5 核心競爭力分析
10.5 成都晶普科技有限公司
10.5.1 企業發展概況
10.5.2 業務經營分析
10.5.3 技術研發分析
10.5.4 核心競爭力分析

第十一章 2019-2021年中國光刻機市場前景分析

11.1 光刻機行業發展前景
11.1.1 全球產品發展趨勢
11.1.2 全球應用場景趨勢
11.1.3 中國技術發展機遇
11.1.4 中國市場需求機遇
11.2 “十四五”時期光刻機行業發展展望
11.2.1 先進制程推進加快光刻機需求
11.2.2 材料設備發展加速產業鏈完善
11.3 2022-2027年中國光刻機行業預測分析
11.3.1 2022-2027年中國光刻機行業影響因素
11.3.2 2022-2027年中國光刻機行業銷售規模預測

圖表目錄

圖表 光刻機結構
圖表 光刻機組成部分及作用
圖表 光刻機工作原理
圖表 正性光刻和負性光刻
圖表 光刻工藝流程圖
圖表 IC制造工序
圖表 產線中晶圓制造設備投資額占比
圖表 光刻機光源類型
圖表 接觸式曝光分類
圖表 投影式曝光分類
圖表 各個工藝節點和工藝及光刻機類型的關系圖
圖表 光刻機演變歷程
圖表 EUV光刻機發展規劃路徑
圖表 接近接觸式光刻分類
圖表 光刻機分類
圖表 光刻機產業鏈
圖表 光刻機組成結構及特點
圖表 光刻機上下游市場產業鏈及關鍵企業
圖表 全球光刻機市場除ASML、Canon、Nikon規模以上企業
圖表 2020年光刻機前三出貨情況
圖表 2020年全球光刻機企業市場份額占比
圖表 2015-2020年光刻機歷年競爭格局(按銷量)
圖表 2015-2020年光刻機三大供應商歷年銷量
圖表 2016-2020年光刻機三大供應商的歷年全球銷售額
圖表 2019-2021年全球晶圓廠設備(前端)開支預測
圖表 不同晶圓制造產線所需光刻機數量
圖表 2019年-2020年ASML在中國銷售情況
圖表 1960-2020年IC前道光刻機價格變化
圖表 2020年光刻機全球市場的產品結構(銷量)
圖表 2020年光刻機全球市場的產品結構(金額)
圖表 2015-2020年光刻機各類產品銷量
圖表 2015-2020年各類光刻機產品全球銷售額
圖表 前三大光刻機企業i-line產品
圖表 2017-2020年i-line光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業KrF產品
圖表 2017-2020年KrF光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業ArF產品
圖表 2017-2020年ArF光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業ArFi產品
圖表 2017-2020年ArFi光刻機銷量
圖表 ASML EUV產品
圖表 2017-2020年EUV光刻機銷量
圖表 2011-2021年EUV光刻機銷售及增速
圖表 2011-2020年EUV光刻機單價變動
圖表 2000之前為ASML快速增長期

版權聲明

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