中商情報網訊：三氟化氮是一種強氧化劑，是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，在集成電路和顯示面板等領域均有廣泛的應用。
供需分析
全球三氟化氮的需求較為平穩，總體供給大于需求，供給與需求均呈平穩增長的趨勢。受益于下游集成電路制造工廠產能擴張、集成電路制程技術節點微縮、3DNAND多層技術的發展，芯片的工藝尺寸越來越小，堆疊層數增加，集成電路制造中進行刻蝕、沉積和清洗的步驟增加，高純三氟化氮的需求將快速增長。預計2023年全球三氟化氮的需求將達4.61萬噸，供給將達5.32萬噸。
數據來源：TECHCET、中商產業研究院整理
競爭格局分析
從競爭格局來看，全球三氟化氮市場中，SKMaterials、派瑞特氣、韓國曉星市場份額占比較高，市場份額占比分別為28%、24%、21%。德國默克、日本關東電化、日本三井占比分別為11%、8%、3%。
數據來源：TECHCET、中商產業研究院整理
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