2021年中國掩膜版行業最新政策匯總一覽(圖)
來源:中商產業研究院 發布日期:2021-12-16 10:04
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中商情報網訊:掩膜版是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。掩膜版的應用廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(集成電路)、FPD(平板顯示器)、PCB(印刷電路板)、MEMS(微機電系統)等。

近年來,國家和政府相繼出臺政策支持掩膜版行業發展。2021年3月,《中華人民共和國國民經濟和社會發展第十四個五年規劃和2035年遠景目標綱要》提出要加強原創性引領性科技攻關。瞄準人工智能、量子信息、集成電路、生命健康、腦科學、生物育種、空天科技、深地深海等前沿領域,實施一批具有前瞻性、戰略性的國家重大科技項目。發展壯大戰略性新興產業。聚焦新一代信息技術、生物技術、新能源、新材料、高端裝備、新能源汽車、綠色環保以及航空航天、海洋裝備等戰略性新興產業,加快關鍵核心技術創新應用。具體政策如下:

數據來源:中商產業研究院整理

更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國掩膜版行業市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、產業研究報告、產業規劃、園區規劃、十四五規劃、產業招商引資等服務。

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