中商情報網訊：光學掩模版在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC、FPD、PCB、MEMS等。
市場規模
隨著半導體產業整體需求持續擴張，全球光掩模板規模表現為穩步增長趨勢，行業整體技術壁壘深厚，產業集中度高，龍頭議價能力高，利潤水平高，數據顯示，2020年全球光掩膜版市場規模達41.88億美元，預計2023年將達51億美元。
數據來源：SEMI、中商產業研究院整理
競爭格局
市場主要為美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷，占比分別為32%、27%和23%。而國內半導體掩模版行業發展較為落后，僅部分公司在面板領域實現較好的技術和客戶突破，而半導體領域極度依賴海外進口。
數據來源：中商產業研究院整理
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國光掩模行業市場前景及投資機會研究報告》，同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、行業研究報告、行業白皮書、商業計劃書、可行性研究報告、園區產業規劃、產業鏈招商圖譜、產業招商指引、產業鏈招商考察&推介會等服務。
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