深度分析:半導體設備逆市上漲 國產化率加速提升
來源:中商產業研究院 發布日期:2023-09-06 16:03
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中商情報網訊:近年來,國內科技領域取得了長足的發展,尤其是在半導體領域的國產化方面取得重要突破。在國家安全、卡脖子壓力以及中國市場需求的推動下,半導體設備需求日益增長。國內全產業鏈大力配合支持,半導體設備研發工作相比此前大幅提速,半導體設備國產化率的穩步提升。

半導體設備市場規模保持增長

半導體設備是半導體產業的先導性、基礎產業,具有技術壁壘高、研發周期長、研發投入高、制造難度大、設備價值高、客戶驗證壁壘高等特點,是半導體產業中最難攻克卻至關重要的一環。中商產業研究院發布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業深度研究報告》顯示,2022年中國半導體設備規模約為2745.15億元,同比增長37.72%。中商產業研究院分析師預測,2023年中國大陸半導體市場規模將達3032億元。

數據來源:SEMI、中商產業研究院整理

半導體設備細分市場

1.光刻機銷量穩定提升

全球半導體設備行業復蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發展,相關芯片的需求增加。2021年全球光刻機銷量為450臺,2022年約為510臺,隨著下游市場需求持續升高,預計2023全球市場仍將持續增長,銷量將超550臺。

數據來源:中商產業研究院整理

2.刻蝕機市場規模保持增長

刻蝕機主要用來制造半導體器件、光伏電池及其他微機械等。近年來,全球刻蝕機市場規模呈增長趨勢。中商產業研究院發布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業深度研究報告》顯示,2019-2022年,全球刻蝕機市場規模由115億美元增至139.9億美元,復合年均增長率達6.8%。中商產業研究院分析師預測,2023年全球刻蝕機市場規模將達148.2億美元。

數據來源:Gartner、中商產業研究院整理

3.涂膠顯影設備持續擴大

涂膠/顯影機作為光刻機的輸入和輸出設備,主要通過機械手使晶圓在各系統之間傳輸和處理,從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程,是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。中商產業研究院發布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業深度研究》報告顯示,2021年中國涂膠顯影設備市場規模達9.4億元,同比增長21.7%,2022年市場規模約為11.1億元。中商產業研究院分析師預測,2023年市場規模將達12.8億元。

數據來源:中商產業研究院整理

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